第180章 ASML又來了
另一個時空，光刻機的發(fā)展經(jīng)過了一個漫長的過程,，1960 年代的接觸式光刻機,、接近式光刻機，到 1970 年代的投影式光刻機,，1980 年代的步進式光刻機,，到步進式掃描光刻機，到浸入式光刻機和8102年的 EUV 光刻機,，設(shè)備性能不斷提高,，推動集成電路按照摩爾定律往前發(fā)展。
曝光光源方面,，從 1960 年代初到 1980 年代中期,，汞燈已用于光刻，其光譜線分別為 436nm（g 線...
颶有梗
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